• 精微高博物理吸附仪亮相第四届长余辉与光激励发光国际研讨会
  • 浏览次数:743  时间:2018-04-08
  •  第四届长余辉与光激励发光国际研讨会(2018)201844-8日在北京航空航天大学举行,北京精微高博科学技术有限公司携BET物理吸附仪亮相。

     

    大会现场

    JW-BK200C是一款研究级超高性能双站比表面及微孔孔隙度分析仪,是JW-BK200系列中的一款畅销产品,测试结果准确性、精确性、稳定性完全达到国际先进水平。非常适合活性炭、活性氧化铝、分子筛、沸石、MOF材料等超微孔纳米粉体材料的研究。精微高博产品还包括JW-BK100系列、JW-BK300系列、JW-BK400系列等不同型号比表面及孔径分析仪

     

    最近几年长余辉与光激励发光材料发展迅速,并广泛应用于各个领域如照明、显示、安全、防伪、传感、生物成像、医学、能源等。本会议的主要目的是报道和研讨发光材料最新的实验和理论进展,展望未来的发展方向。另外,本次会议将促进和加强研究人员之间及学术界与企业界的合作。对参加会议的学生也能起到培养作用。

     

    本次会议的议题:

    * 新型发光材料及制备方法

    * 光谱表征方法例如光致发光谱、热释发光谱等。

    * 结构、缺陷和性能表征方法

    * 能量传递过程

    * 晶体结构、电子结构、荷电/捕获/发光等的计算机模拟

    * 纳米发光材料

    * 固态照明、显示和能量转换中的应用

    * 生物成像、细胞标记、抗癌、药物输运/释放等应用

    * 传感、安全、隐身、辐射探测等方面的应用

     

    关于精微高博:

    北京精微高博科学技术有限公司被誉为“中国氮吸附仪的开拓者”,在国内率先研发成功动态全自动比表面仪、BET比表面仪、阶梯法动态比表面仪、単气路常压孔径分析仪、静态容量法介孔分析仪、静态四站比表面测定仪、高性能静态微孔分析仪、气体法真密度仪、高压吸附仪等。随着JWGB(精微高博)产品在全球市场知名度的提升,我们期待精微高博国际市场也将越做越大。了解更多,请登录www.jwgb.net或致电400-600-5039

    •  0.0001(m2/g)--至无上限(比表面积)
      2nm-500nm(介孔及大孔分析)
      0.35nm-2nm( 微孔常规分析)
      孔体积0.0001cm3/g-至无上限

       

     

  • 动态比表面仪
  • JW-D系列
  • 测试范围:≥0.001m2/g
    重复精度:±1.0%
    同时进行3个被测样品测试
    平均每个样品5min

     

     

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